執行現況與成果
國家實驗研究院 台灣儀器科技研究中心
本計畫擬進行大面積二維材料沉積設備與製程開發,以開發新穎二維半導體材料製程設備與關鍵元件技術為目標,並建置大面積二維材料製程與關鍵元件驗證平台,提供產學研進行前瞻性先期研究開發。針對二維材料發展扮演類似基礎研究核心設施之角色,有條件開放產學研界進行前瞻性材料元件測試,最終將協助國內半導體設備產業進入高附加價值之半導體製程設備供應鏈,使國內廠商能佈局下世代半導體製程與設備產業,將國內半導體設備能力再升級。
本計畫擬建立之大面積二維材料製程/設備,並依據服務平台精神提供產學研界共同進行前瞻性材料研究開發
1. 全氣態8吋熱壁式金屬有機化學汽相沉積系統
2. H2S成長大尺寸二硫化鎢